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发布时间:2020-03-25 05:00:30
化学镀镍在这个工艺中,化学镀镍层的厚度约5μm。化学镀镍液的组成和操作条件见表1所示。化学镀镍溶液中,使用次亚磷酸钠为还原剂,用***和氨水调节镀液的pH值到5.5。通过上述试验,将镀镍后的基板,用放大镜来观察基板上铜导体图形间树脂上2.2 焊料球焊接强度测定 焊料球焊接强度的试验基板,基板厚为0.6mm在树脂层上焊盘直径为0.65mm,化学镍工厂,节距为1.27mm。基板表面焊盘的处理工艺化学镀镍条件与上述2.1规定的工艺条件相同,化学镍加工厂家,然后再在qing酸系化学镀金溶液中镀金厚度为0.05μm。化学镀金溶液qing化金(1)钾、柠檬酸钾和EDTA钢,pH值6.0、镀液温度为85℃工艺条件下,石龙化学镍,镀5分钟。
随着半导体输入端子数量的增加,基板向侧面端子的多腿化及信号线间距微细化的发展。多腿化的趋势使QFP(Quad Flat Package)构造盘间的节距狭小化制造的难度增加,特别是面阵列端子(面端子)化的需要,BGA(Ball Grid Array)构造的超小型化封装的开发。超小型化封装端子的表面处理的外部引出线需要增加适合的化学镀金/化学镀镍。化学镀金或电镀金的工艺方法比较而言,对于***的电路图形上表面处理是适用的,镀层的厚度可以根据需要增加,这一点是非常有利的。
1.化学镍电镀厂家分析,根据工件重要程度可选择新旧镀液区别对待,也可先用旧镀液进行预镀,取出后放入新镀液中镀覆,铝镀化学镍,尤其在镀覆铝基体工件时,此法可延长镀液使用寿命。
2.工件入槽时采取小批量同时入槽的方式,并记下每批入槽的准确时间,镀覆时间的长短应根据镀层的厚度要求而定,必须采用测定小试片的镀厚及镀速来决定镀覆时间。
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